气氛坩埚炉，真空气氛坩埚炉，1200度坩埚炉，1200度真空气氛坩埚炉

1200度实验室坩埚炉（井式炉）主要用于高校、科研院所、工矿企业煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物，退火或扩散半导体晶片，也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料等，主要用于熔化熔点不太高的有色金属，如铜、铝及其合金等。

电炉名称：1200度真空气氛坩埚炉

炉膛结构：井式

开门方式：上开/侧开（可定制）

工作温度：≤1100℃

额定温度：1200℃

炉膛尺寸：200mm*200*200(可定制)

加热元件：合金加热丝

坩埚材质：高纯石英

温控方式：智能化30段PID微电脑可编程控制

温控保护：具有超温及断偶报警功能

热电偶：K型

可通气体：氮气、氩气等多种气体

真空度：-0.1Mpa/10Pa/10-3Pa

炉膛材质：高纯氧化铝多晶纤维

加热速率：0-20℃/分

恒温精度：±1℃

均匀性：±5℃

炉壳结构：双层壳体带风冷系统

额定功率：2.5Kw

供电电源：110-480V 50/60Hz

坩埚炉直径：100-500mm(可按需定制)

坩埚炉深度：100-500mm(可按需定制)

售后服务：12个月质保，终身保修(易损件除外)